Process Controllability of ICP-Enhanced Reactive Sputter Deposition for Low-Temperature Formation of IGZO TFT
Process Controllability of ICP-Enhanced Reactive Sputter Deposition for Low-Temperature Formation of IGZO TFT
复制标题
用于低温形成 IGZO TFT 的 ICP 增强反应溅射沉积的工艺可控性
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
G. Uchida and A. Ebe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Setsuhara;K. Takenaka;G. Uchida and A. Ebe
