Potential structure of a plasma in an internal conductor device under the influence of a biased electrode
Potential structure of a plasma in an internal conductor device under the influence of a biased electrode
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偏压电极影响下内部导体装置中等离子体的电势结构
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Z.Yoshida et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Saitoh;Z.Yoshida et al.
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通讯作者：
S.M.Mahajan