Binding groups for highly ordered SAM formation: carboxylic versus thiol.
Binding groups for highly ordered SAM formation: carboxylic versus thiol.
复制标题
用于高度有序 SAM 形成的结合基团：羧基与硫醇。
DOI：
10.1039/c7cc01939d
复制
发表时间：
2017
影响因子：
4.9
通讯作者：
P. Cyganik
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Anna Krzykawska;Jakub Ossowski;Tomasz Żaba;P. Cyganik
报道了通过-SH或-COOH结合基团在银表面化学吸附的类似自组装膜的结构。我们的观察表明，COOH结合基团可以被认为是当前基于硫结合基团的标准的一种有前途的替代方案，特别是当2D有序性、SAM制备时间和在环境条件下的稳定性非常重要时。
The structure of analogous SAMs chemisorbed on an Ag substrate via a -SH or -COOH binding group is reported. Our observations indicate that COOH binding groups can be considered as a promising alternative for the current standard based on the sulfur binding groups, particularly when 2D ordering, SAM fabrication time and stability under ambient conditions are of great importance.
影响因子：
8.4
作者：
Cebula, Izabela;Lu, Hao;Buck, Manfred
通讯作者：
Buck, Manfred