nm-scaled workfunction mapping of interface between crystalline Si and metal paste electrode using KFM
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使用 KFM 绘制晶体硅和金属浆料电极之间界面的纳米级功函数图
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Itaru Kamiya and Yoshio Ohshita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Fumihiko Yamada;Manabu Yoshida;Hideo Tokuhisa;Mari Aoki ;Uichi Itoh;Isao Sumita;Shigenobu Sekine;Itaru Kamiya and Yoshio Ohshita
