Development of high-precision ultrasonic microscopy measurement system and measurement of the surface wave velocities of (100) silicon wafer
Development of high-precision ultrasonic microscopy measurement system and measurement of the surface wave velocities of (100) silicon wafer
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高精度超声波显微测量系统研制及(100)硅片表面波速测量
DOI：
10.1784/insi.2012.55.5.253
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发表时间：
2013-05
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Gao Zhongyang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Song Guorong;Lu Yan;Gao Zhongyang
