超並列電子線描画装置の開発
超並列電子線描画装置の開発
复制标题
大规模并行电子束光刻系统的研制
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉田慎哉
中科院分区：
文献类型：
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作者：
江刺正喜;池上尚克;小島明;宮口裕;西野仁;越田信義;吉田孝;室山真徳;吉田慎哉
