Progress in Laser-Plasma Sources - 13.5 nm & Beyond
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激光等离子体源的进展 - 13.5 nm
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Gerry O’Sullivan
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Padraig Dunne;Takeshi Higashiguchi;Takamitsu Otsuka;Weihua Jiang;Akira Endo;Bowen Li;Colm O’Gorman;Thomas Cummings;Patrick Hayden;Tony Donnelly;Fergal O’Reilly;and Gerry O’Sullivan
