GeO2/Ge界面反応の理解に基づくGeO2膜物性の化現象の制御

GeO2/Ge界面反応の理解に基づくGeO2膜物性の化現象の制御
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基于GeO2/Ge界面反应的控制GeO2薄膜的物理性质

DOI:
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发表时间:
2010
期刊:
電子情報通信学会技術研究報告
影响因子:
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通讯作者:
鳥海明
鳥海明
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
喜 多 浩之 ;王盛凱;李忠賢;吉田まほろ;西村知紀;長汐晃輔;鳥海明

文献摘要

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