電界スラリー制御システムを導入したSiウエハの高効率CMP技術
電界スラリー制御システムを導入したSiウエハの高効率CMP技術
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利用电场浆液控制系统的硅片高效CMP技术
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
大橋儀宗，池田 洋，久住孝幸，越後谷正美，赤上陽一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Sung-Won Youn;Kenta Suzuki;and Hiroshi Hiroshima;久住 孝幸，池田 洋，越後谷 正見，中村 竜太， 赤上 陽一;Takeshi Yamaguchi;鈴木健太,倉島優一,尹成圓,高木秀樹,廣島洋,大島清志,小林英樹;大橋儀宗，池田 洋，久住孝幸，越後谷正美，赤上陽一
