Cryogenic NbTiN thin film resistors fabricated by using reactive magnetron sputtering

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DOI:
10.1016/j.tsf.2022.139575
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发表时间:
2022-11
期刊:
影响因子:
2.1
通讯作者:
W. Shan;S. Ezaki
W. Shan;S. Ezaki
中科院分区:
材料科学3区
文献类型:
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作者:
W. Shan;S. Ezaki

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