Influence of Dopant Uniformity on Electron Transport in CuxBi2Se3 Films
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DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
Cryst. Growth Des.
影响因子：
3.8
通讯作者：
Z.D.Zhang
Z.D.Zhang
中科院分区：
化学2区
文献类型：
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作者：
D.Han;Z.H.Wang;X.Gao;Z.D.Zhang
文献摘要
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