K. Tachibana: "Measurement and calculation of SiH_2 radical density in SiH_4 and Si_2H_6 plasma for the deposition of hydrogenated amorphous silicon thin film" Japanese Journal of Applied Physics. 34. 4239-4246 (1995)
K. Tachibana: "Measurement and calculation of SiH_2 radical density in SiH_4 and Si_2H_6 plasma for the deposition of hydrogenated amorphous silicon thin film" Japanese Journal of Applied Physics. 34. 4239-4246 (1995)
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K. Tachibana：“用于沉积氢化非晶硅薄膜的SiH_4和Si_2H_6等离子体中SiH_2自由基密度的测量和计算”日本应用物理学杂志。
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