UV Imprint Lithography: Process, Materials and Applications
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UV 压印光刻：工艺、材料和应用
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Shirai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G. Sazaki;A. Van Driessche;G. Dai;M. Okada;T. Matsui;F.Otarola;K. Tsukamoto;K. Nakajima;M. Shirai
