Resputtering effects during ion beam assisted deposition and the sputter yield amplification effect
Resputtering effects during ion beam assisted deposition and the sputter yield amplification effect
复制标题
离子束辅助沉积过程中的再溅射效应和溅射产率放大效应
DOI：
--
复制
发表时间：
1996
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
I. Katardjiev
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
S. Berg;I. Katardjiev
