Quantitative Analysis of Defects and Microstructures in Si Multicrystals Using X-ray Diffraction
Quantitative Analysis of Defects and Microstructures in Si Multicrystals Using X-ray Diffraction
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利用 X 射线衍射定量分析硅多晶中的缺陷和微观结构
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Nakajima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Kutsukake;N.Usami;K.Fujiwara;K.Nakajima
