T. Shirakawa, et al.: "RF Plasma Production at Ultra-low Pressures with Surface Magnetic Confinement" Japan. J. Appl. Phys. Vol. 29, No. 6. 1015-1018 (1990)
T. Shirakawa, et al.: "RF Plasma Production at Ultra-low Pressures with Surface Magnetic Confinement" Japan. J. Appl. Phys. Vol. 29, No. 6. 1015-1018 (1990)
复制标题
T. Shirakawa 等人：“采用表面磁约束的超低压射频等离子体生产”，日本。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
