Enhancement of discharge and deposition rate in dual-pulse pulsed magnetron sputtering: Effect of ignition pulse width
Enhancement of discharge and deposition rate in dual-pulse pulsed magnetron sputtering: Effect of ignition pulse width
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双脉冲脉冲磁控溅射中放电和沉积速率的增强：点火脉冲宽度的影响
DOI：
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发表时间：
2019
影响因子：
5.4
通讯作者：
Zhongzhen Wu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Houpu Wu;Qinwen Tian;Xiubo Tian;Chunzhi Gong;Xinyu Zhang;Zhongzhen Wu
