S.Hamaguchi, H.Ohta: "Surface molecular dynamics of Si/ SiO_2 reactive ion etching"Vacuum. 66. 189 (2002)
S.Hamaguchi, H.Ohta: "Surface molecular dynamics of Si/ SiO_2 reactive ion etching"Vacuum. 66. 189 (2002)
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S.Hamaguchi、H.Ohta：“Si/ SiO_2 反应离子蚀刻的表面分子动力学”真空。
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