Studies on Electrical and Retention Enhancement Properties of Metal-Ferroelectric-Insulator-Semiconductor with Radical Irradiation Treatments
Studies on Electrical and Retention Enhancement Properties of Metal-Ferroelectric-Insulator-Semiconductor with Radical Irradiation Treatments
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自由基辐照处理金属-铁电-绝缘体-半导体的电学和保留增强性能研究
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Masanori Okuyama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Le Van Hai;Takeshi Kanashima;Masanori Okuyama
