K.Kishimoto,他5名: "Microstructure control of FeSi_2 ceramics by rf-plasma processing in SiH_4 and GeH_4" AlP Conference Procedings. 316. 123-126 (1995)
K.Kishimoto,他5名: "Microstructure control of FeSi_2 ceramics by rf-plasma processing in SiH_4 and GeH_4" AlP Conference Procedings. 316. 123-126 (1995)
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K. Kishimoto 和其他 5 人：“SiH_4 和 GeH_4 中射频等离子体处理对 FeSi_2 陶瓷的微观结构控制”AlP 会议记录，316. 123-126 (1995)。
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