Control of Ni/Si interfacial reaction and NiSi technology for ULSI applications

Control of Ni/Si interfacial reaction and NiSi technology for ULSI applications
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用于 ULSI 应用的 Ni/Si 界面反应和 NiSi 技术的控制

DOI：
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发表时间：
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期刊：
Proceedings of IUMRS International Conference in Asia 2004 (印刷中)
影响因子：
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通讯作者：
Y.Yasuda
Y.Yasuda
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
S.Zaima;O.Nakatsuka;A.Sakai;Y.Yasuda

文献摘要

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