Quantitative secondary ion mass spectrometry analysis of SiO2 desorption during in situ heat cleaning
Quantitative secondary ion mass spectrometry analysis of SiO2 desorption during in situ heat cleaning
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原位热清洗过程中SiO2解吸的定量二次离子质谱分析
DOI：
10.1016/s0040-6090(98)00464-7
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发表时间：
1998
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
M. Oehme
中科院分区：
文献类型：
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作者：
E. Kasper;M. Bauer;M. Oehme
