1373Kにおける酸化コバルト皮膜中のボイド形成の予測

1373Kにおける酸化コバルト皮膜中のボイド形成の予測
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1373K 氧化钴薄膜中空洞形成的预测

DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
丸山俊夫
丸山俊夫
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
秋葉浩二郎;上田光敏;河村憲一;丸山俊夫

文献摘要

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