MD analysis of the effect of oxide film on wear behavior at Ti/HAp interface
MD analysis of the effect of oxide film on wear behavior at Ti/HAp interface
复制标题
MD分析氧化膜对Ti/HAp界面磨损行为的影响
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
ファムディン ダット，大塚 雄市，宮下 幸雄
中科院分区：
文献类型：
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作者：
LIU;Dayuan;CHEN;Ta-Te;WATANABE;Ikumu;ファムディン ダット，大塚 雄市，宮下 幸雄
