Influence of the source gas ratio on the hydrogen and deuterium content of a-C:H and a-C:D films: Plasma-enhanced CVD with CH_4/H_2, CH_4/D_2, CD_4/H_2 and CD_4/D_2
Influence of the source gas ratio on the hydrogen and deuterium content of a-C:H and a-C:D films: Plasma-enhanced CVD with CH_4/H_2, CH_4/D_2, CD_4/H_2 and CD_4/D_2
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源气配比对a-C:H和a-C:D薄膜氢、氘含量的影响：CH_4/H_2、CH_4/D_2、CD_4/H_2和CD_4/D_2等离子体增强CVD
DOI：
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发表时间：
2013
影响因子：
6.7
通讯作者：
T. Masuzawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Ozeki;D. Sekiba;T. Suzuki;K. Kanda;M. Niibe;K.K. Hirakuri;T. Masuzawa
