Influence of ion bombardment on electronic properties of amorphous carbon films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition
Influence of ion bombardment on electronic properties of amorphous carbon films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition
复制标题
离子轰击对等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜电子性能的影响
DOI：
--
复制
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
M. Hori
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
H. Sugiura;L. Jia ;H. Kondo;K. Ishikawa;K. Takeda;M Sekine;M. Hori
