Atom lithography of Fe
Atom lithography of Fe
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DOI：
10.1063/1.1818347
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发表时间：
2004-11
影响因子：
4
通讯作者：
te E Edwin Sligte;B. Smeets;van der Kmr Stam;Rw Rudolf Herfst;P. Straten;Hcw Herman Beijerinck;Van Lee
中科院分区：
文献类型：
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作者：
te E Edwin Sligte;B. Smeets;van der Kmr Stam;Rw Rudolf Herfst;P. Straten;Hcw Herman Beijerinck;Van Lee
直写原子光刻是一种利用近共振光对原子束进行图形化的技术。当图案化的光束福尔斯落在衬底上时形成纳米结构。我们已经将这种光刻方案应用于铁磁元件，使用372nm的激光驻波来图案化铁原子束。在这个原理验证实验中，我们沉积了一个50 nm宽的网格线，间距为186 nm。这些超规则、大规模的铁磁线阵列可能会在自旋电子学和纳米磁学领域产生令人兴奋的新发展。
Direct write atom lithography is a technique in which nearly resonant light is used to pattern an atom beam. Nanostructures are formed when the patterned beam falls onto a substrate. We have applied this lithography scheme to a ferromagnetic element, using a 372nm laser light standing wave to pattern a beam of iron atoms. In this proof-of-principle experiment, we have deposited a grid of 50-nm-wide lines 186nm apart. These ultraregular, large-scale, ferromagnetic wire arrays may generate exciting new developments in the fields of spintronics and nanomagnetics.