Control of the Metal-Insulator Transition in VO2 Thin Films by K Deposition
Control of the Metal-Insulator Transition in VO2 Thin Films by K Deposition
复制标题
K 沉积控制 VO2 薄膜中金属-绝缘体转变
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and H. Kumigashira
中科院分区：
文献类型：
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作者：
D. Shiga;M. Minohara;M. Kitamura;R. Yukawa;K. Horiba;and H. Kumigashira
