H.Ishiwara: "Solid phase recrystallization of amorphous and MBE-grown Ge films on Si substrates by annealing under ultrahigh pressure" Ext.Abstracts of 1992 Intern.Conf.on Solid Stae Devices and Materials. 671-673 (1992)
H.Ishiwara: "Solid phase recrystallization of amorphous and MBE-grown Ge films on Si substrates by annealing under ultrahigh pressure" Ext.Abstracts of 1992 Intern.Conf.on Solid Stae Devices and Materials. 671-673 (1992)
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H.Ishiwara：“通过超高压退火在硅衬底上实现非晶态和 MBE 生长的 Ge 薄膜的固相再结晶”1992 年固体器件和材料实习会议的摘要。
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