Cu/Si Interface Fracture Due to Fatigue of Cooper Film in Nanometer Scale
Cu/Si Interface Fracture Due to Fatigue of Cooper Film in Nanometer Scale
复制标题
纳米级库珀薄膜疲劳引起的铜/硅界面断裂
DOI：
--
复制
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
ほか
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Takashi Sumigawa;ほか
疲劳中的位错行为 V：环斑的破坏以及持久滑移带和位错单元的形成
DOI：
10.1016/0025-5416(80)90176-7
发表时间：
1980
期刊：
Materials Science and Engineering
影响因子：
--
作者：
D. Kuhlmann;C. Laird
通讯作者：
C. Laird
疲劳时的脱位行为
DOI：
--
发表时间：
1977
期刊：
影响因子：
--
作者：
D. Kuhlmann;C. Laird
通讯作者：
C. Laird