S.Kaneko: "Epitaxial Growth of AlN by Low-Pressure MOCVD using Gas-Beam-Flow Reactor" J.Crystal Growth. 115. 643-647 (1991)
S.Kaneko: "Epitaxial Growth of AlN by Low-Pressure MOCVD using Gas-Beam-Flow Reactor" J.Crystal Growth. 115. 643-647 (1991)
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S.Kaneko：“使用气体束流反应器通过低压 MOCVD 进行 AlN 外延生长”J.Crystal Growth。
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