木村 景一, 三好 隆志, 高谷 裕浩, 高橋 哲: "光放射圧制御微粒子集積現象に基づくCMP加工に関する基礎的研究"精密工学会誌. 69.1. 89-94 (2003)

Keiichi Kimura、Takashi Miyoshi、Hirohiro Takatani、Satoshi Takahashi：“基于光辐射压力控制粒子积累现象的 CMP 加工的基础研究”日本精密工程学会杂志 69.1（2003 年）。