Next Generation of SRF-Guns: Low Secondary Electron Yield Based on a Thin Film Approach
Next Generation of SRF-Guns: Low Secondary Electron Yield Based on a Thin Film Approach
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下一代 SRF 枪：基于薄膜方法的低二次电子产率
DOI：
10.18429/jacow-srf2015-tupb047
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
X. Jiang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C. Schlemper;M. Vogel;X. Jiang
