Low temperature rapid formation of Au-induced crystalline Ge films using sputtering deposition
Low temperature rapid formation of Au-induced crystalline Ge films using sputtering deposition
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利用溅射沉积低温快速形成 Au 诱导晶态 Ge 薄膜
DOI：
10.1016/j.tsf.2017.02.067
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
M. Shiratani
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Tanami;D. Ichida;S. Hashimoto;H. Seo;D. Yamashita;N. Itagaki;K. Koga;M. Shiratani
