Fabrication of HfO_2 Thin Film on Si Substrate by Double-Pulse Excitation PLD
Fabrication of HfO_2 Thin Film on Si Substrate by Double-Pulse Excitation PLD
复制标题
双脉冲激发PLD在Si衬底上制备HfO_2薄膜
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Shinozaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Tabara;N.Wakiya;T.Kiguchi;J.Tanaka;K.Shinozaki
