新田大輔, 三好隆志, 高谷裕浩, 高橋哲, Taeho Ha: "光敵乱によるCMP加工表面薄膜欠陥計測に関する研究(第3報)-付着異物の散乱特性-"2002年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集. 東工大(発表予定). (2002)

Daisuke Nitta、Takashi Miyoshi、Hirohiro Takatani、Satoshi Takahashi、Taeho Ha：“利用光学扰动对 CMP 加工表面进行薄膜缺陷测量的研究（第 3 次报告）- 附着异物的散射特性 -” 2002 年精密工程学会春季会议收集东京工业大学学术会议论文（待提交）（2002 年）。