ミスト CVD 法による c面 Al2O3 基板への Ni1-XMgXO 薄膜のエピタキシャル成長とバンドギャップ制御
ミスト CVD 法による c面 Al2O3 基板への Ni1-XMgXO 薄膜のエピタキシャル成長とバンドギャップ制御
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雾气CVD法和带隙控制在c面Al2O3衬底上外延生长Ni1-XMgXO薄膜
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
平藤哲司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
米谷怜;池之上卓己;三宅正男;平藤哲司
