Automated Pattern Modification Method to Equalize Residual Layer Thickness in Nanoimprint Lithography
Automated Pattern Modification Method to Equalize Residual Layer Thickness in Nanoimprint Lithography
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用于均衡纳米压印光刻中残留层厚度的自动图案修改方法
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hiroshima Hiroshi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Youn Sung-Won;Suzuki Kenta;Hiroshima Hiroshi
