レーザー蒸発法によるSi/Geターゲットからの酸化ケイ素ナノチューブの形成
レーザー蒸発法によるSi/Geターゲットからの酸化ケイ素ナノチューブの形成
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激光蒸发法从 Si/Ge 靶材形成氧化硅纳米管
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉田宗倫，平岩昂，秦野和也，小塩明，小林慶太，坂田孝夫，保田英洋，小海文夫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Nakayama Chisayo;Harada Masafumi;Iida Masayasu;吉田宗倫，平岩昂，秦野和也，小塩明，小林慶太，坂田孝夫，保田英洋，小海文夫
