パーシステントホモロジーを利用したCVDグラフェンの移動度と表面ラフネスの相関関係の解析
パーシステントホモロジーを利用したCVDグラフェンの移動度と表面ラフネスの相関関係の解析
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使用持久同源性分析 CVD 石墨烯的迁移率和表面粗糙度之间的相关性
DOI:
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发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
山田貴壽
中科院分区:
文献类型:
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作者:
沖川侑揮;山田貴壽