Fabrication of InP-based two-dimensional photonic crystal membrane
Fabrication of InP-based two-dimensional photonic crystal membrane
复制标题
InP基二维光子晶体薄膜的制备
DOI：
10.1116/1.1635848
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发表时间：
2004
影响因子：
1.4
通讯作者：
E. Hu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
A. Xing;M. Davanco;D. Blumenthal;E. Hu
研究了InP基二维光子晶体薄膜结构的制备工艺。该过程包括一个良好校准的电子束（电子束）光刻和InGaAsP/InP蚀刻使用甲烷-氢-氩反应离子蚀刻。成功地制备了具有不同晶格常数和填充因子的10排六边形孔阵列的光子晶体块，并通过光学透射测量对其进行了表征。确定了带隙对系统制造误差的敏感性。
The fabrication process of a InP-based two-dimensional photonic crystal membrane structure is developed. The process includes a well-calibrated electron-beam (e-beam) lithography and InGaAsP/InP etching using methane–hydrogen–argon reactive ion etching. The photonic crystal blocks with ten rows of a hexagonal array of holes with various lattice constants and filling factors are successfully fabricated and characterized by optical transmission measurement. The sensitivity of the band gap to the systematic fabrication error is determined.
绝缘体上硅二维光子晶体板线缺陷波导分析
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
IEEE/OSA Journal of Lightwave Technology Vol.22 No.12
影响因子：
--
作者：
Y.Tanaka;T.Asano;R.Hatsuta;S.Noda
通讯作者：
S.Noda