パルスレーザー堆積法によりSiを強制固溶させたCr-Si-N薄膜の作製と硬度評価
パルスレーザー堆積法によりSiを強制固溶させたCr-Si-N薄膜の作製と硬度評価
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脉冲激光沉积法强制固溶Si Cr-Si-N薄膜的制备及硬度评价
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
遠藤稔之ほか
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Mitsuma;T.Tohei;N.Shibata;T.Mizoguchi;T.Yamamoto;and Y.Ikuhara;遠藤稔之ほか
