Charge dynamics in resist polymers for EUV and EB lithography
Charge dynamics in resist polymers for EUV and EB lithography
复制标题
EUV 和 EB 光刻抗蚀剂聚合物中的电荷动力学
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kazumasa Okamoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Nunami;T.-H. Watanabe;H. Sugama;K. Tanaka;Kazumasa Okamoto
