H.Yamada: "Anisotropic Reactive Ion Etching Technique of GaAs and AlGaAs Materials for Integrated Optical Device Fabrication." J. Vacuum Science and Technology B. 3. 884-888 (1985)
H.Yamada: "Anisotropic Reactive Ion Etching Technique of GaAs and AlGaAs Materials for Integrated Optical Device Fabrication." J. Vacuum Science and Technology B. 3. 884-888 (1985)
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H.Yamada：“用于集成光学器件制造的 GaAs 和 AlGaAs 材料的各向异性反应离子蚀刻技术”。
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