Ni化合物半導体とのヘテロ接合によるグラフェンTFTの特性向上
Ni化合物半導体とのヘテロ接合によるグラフェンTFTの特性向上
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通过与镍化合物半导体异质结改善石墨烯TFT性能
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
市川和典
中科院分区：
文献类型：
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作者：
伊東 栄次;山根 創成;市川和典
