K.Sasaki, T.Hasu, K.Sasaki, T.Hata: "Preparation of YSZ Ultra thin Film for Gate Inslator Films by Metal/Oxide Mode"Tech. Rep. Of IEICE. CPM2000-123. 39-44 (2000)
K.Sasaki, T.Hasu, K.Sasaki, T.Hata: "Preparation of YSZ Ultra thin Film for Gate Inslator Films by Metal/Oxide Mode"Tech. Rep. Of IEICE. CPM2000-123. 39-44 (2000)
复制标题
K.Sasaki、T.Hasu、K.Sasaki、T.Hata：“通过金属/氧化物模式制备用于栅极绝缘体薄膜的 YSZ 超薄膜”技术。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
