Evaluation of ultrasonic attenuation in oxide thin films by Brillouin oscillation using strong wavelength dependence of refractive index in Si
Evaluation of ultrasonic attenuation in oxide thin films by Brillouin oscillation using strong wavelength dependence of refractive index in Si
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利用 Si 中折射率的强波长依赖性，通过布里渊振荡评估氧化物薄膜中的超声波衰减
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Masahiko Hirao
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kei Morita;Hirotsugu Ogi;Nobutomo Nakamura;Masahiko Hirao
