金属/Ge界面に導入した酸化膜と硫化膜がFermi-level pinningに与える影響の比較
金属/Ge界面に導入した酸化膜と硫化膜がFermi-level pinningに与える影響の比較
复制标题
金属/Ge界面引入的氧化物和硫化物薄膜对费米能级钉扎影响的比较
DOI：
--
复制
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
鳥海明
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
西村知紀;李忠賢;長汐晃輔;喜多浩之;鳥海明
