G.Tochitani, M.Shimozuma and H.Tagashira: "Properties of hydrogenated amorphous silicon films prepared by low-frequency (50Hz) plasma-enhanced chemical-vapor deposition" J.Applied Physics. Vol.72. 234-238 (1992)
G.Tochitani, M.Shimozuma and H.Tagashira: "Properties of hydrogenated amorphous silicon films prepared by low-frequency (50Hz) plasma-enhanced chemical-vapor deposition" J.Applied Physics. Vol.72. 234-238 (1992)
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G.Tochitani、M.Shimozuma 和 H.Tagashira：“低频 (50Hz) 等离子体增强化学气相沉积制备的氢化非晶硅薄膜的特性”J.Applied Chemistry。
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