Texturing behavior in sintered reaction-bonded silicon nitride via strong magnetic field alignment
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通过强磁场对准烧结反应结合氮化硅的织构行为
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Uchikoshi and Y. Sakka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
X. Zhu;T. S. Suzuki;T. Uchikoshi and Y. Sakka
